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自社の得意な技術や、他社にはまねできない特異な技術を紹介するコーナーです。
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イオンプレーティング 方法 原理 真空状態で金属イオンを放出させる
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1.品物を治具にセットし、機械内部を高真空(10-3 Pa~10-5 Pa)にして、電子ビームを蒸着材(Tiなど)に照射し蒸発させます。高真空にする理由は、そうすることで固体の蒸発温度が下がり蒸発しやすくなるからです。さらに高真空・高温になることで電子の運動が活発化されます。
2.蒸発源に電圧をかけることで蒸発粒子をイオン化します。活発に運動する電子(熱電子)に正の電圧をかけると、電子が電極(イオン化電極)に向かって進むのですが、この間に蒸発粒子と衝突し蒸発粒子がイオン化されます(M→M++e)。これを繰り返します。
3.+イオンとなった蒸発粒子は、品物に向かって進みます。品物に到...
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アイテック 株式会社 (日本 福井県)
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